Die plasma-ionengestützte Beschichtung ist eine neuartige Beschichtungstechnik, bei der im Vergleich mit konventionellen Techniken verbesserte optische und nichtoptische Eigenschaften der abgeschiedenen Schichten erzielt werden. Die Ausgangsmaterialien für die optischen Schichten werden, wie bei konventionellen Verfahren, mittels reaktiver Elektronenstrahlverdampfung im Hochvakuum in den gasförmigen Zustand überführt. Das Wachstum der Schichten auf den Substraten wird dann durch ein Bombardement von Argon-Ionen unterstützt. Dazu wird ein Plasma in der Beschichtungskammer gezündet.

 

Es entstehen Schichten mit einer Packungsdichte nahe dem Idealwert von Eins, was gegenüber konventionell hergestellten Schichten zu einer höheren Brechzahl der Schichten führt, eine Wasseraufnahme der Schichten nahezu vollständig verhindert, und amorphe, harte, verlustarme und langzeitstabile Schichten erzeugt. Die Abscheidung der ionengestützten Schichten erfordert keinerlei zusätzliche Heizung der Substrate. Deren Temperaturbelastung entsteht nur durch die thermische Strahlung, die beim Betrieb des Elektronenstrahlverdampfers und der Plasmaquelle auftritt (ca. 100° C).

 

Im plasma-ionengestützten Beschichtungsverfahren erzeugte Schichten sind die Voraussetzungen für eine Vielzahl neuer Applikationen der optischen Schichten. Sie ermöglichen die Realisierung komplexer Schichtdesigns mit Schichtenzahlen weit über 100, beliebigen Schichtdicken oder sehr dünnen Schichten (Needle-Layers). Das führt zu wesentlich neuen Leistungsparameter der Schichtsysteme z.B. für AR-Schichten, Bandpass-Filter und Kantenfilter.
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